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  • 离子源的主要作用及分类

    离子源的主要作用及分类

    离子源的主要作用及分类如下:离子源(英文名称:Ion source)是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。高频...

    2024-07-22 网络 更多内容 619 ℃ 148
  • 离子源的离子源的类型

    离子源的离子源的类型

    利用稀薄气体中的高频放电现象使气体电离,一般用来产生低电荷态正离子,有时也从中引出负离子,作为负离子源使用。 在高频电场中,自由电子与气体中的原子(或分子)碰撞,并使之电离。带电粒子倍增的结果,形成无极放电,产生大量等离子体。高频离子源的放电管一般用派勒克斯玻璃或...

    2024-07-22 网络 更多内容 725 ℃ 148
  • 离子源是做什么用的

    离子源是做什么用的

    质谱仪的主要组成之一,实现样品离子化的区域。由电离室、离子束的加速场、聚焦透镜等构成。它的作用是使被分析物电离,变成分子离子或碎片离子。离子源的种类很多,主要有电子电离源、化学电离源、射频火花源、电感耦合等离子体离子源、场致电离源、场解吸电离源、快原子轰...

    2024-07-22 网络 更多内容 735 ℃ 422
  • 离子源的功能和分类

    离子源的功能和分类

    离子源的功能和原理3、离子辅助镀膜的薄膜特性:1、镀层与工件表面同时存在物理气相沉积及化学反应,故镀层结合力高。2、膜层均匀致密、韧性好;3、光谱特性稳定,温漂小4、吸水性减少5、折射率升高6、粗糙度降低7、激光阈值降低8、膜层发雾,光散射增加4、离子源参数、性能比...

    2024-07-22 网络 更多内容 671 ℃ 570
  • 离子源的离子源的应用

    离子源的离子源的应用

    离子掺杂与离子束改性 从20世纪60年代开始,人们将一定量的硼、磷或其他元素的离子注入到半导体材料中,形成掺杂。掺杂的深度可用改变离子的能量来控制;掺杂的浓度可通过积分离子流强度来控制。离子注入方法的重复性、可靠性比扩散法好。离子注入掺杂在半导体大规模集成...

    2024-07-22 网络 更多内容 243 ℃ 533
  • 离子源名词解释

    离子源名词解释

    离子源(英文名称:Ion source)是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。

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  • 离子源是啥

    离子源是啥

    离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。它是一种流强大产额高的离子源各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。

    2024-07-22 网络 更多内容 905 ℃ 194
  • 几种常见离子源的原理和特点

    几种常见离子源的原理和特点

    化学电离法是通过离子分子反应来进行,而不是用强电子束进行电离CI的优点:软电离方式,MH+强度大,易确定分子量和定量分析;C键不易开裂,易获得官能团的信息。CI的缺点:重现性差,一般不用制作标准图谱;不适合难挥发、热不稳定化合物的分析③快原子轰击离子源(FAB)FAB的优点:软...

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  • Ne是原子还是离子

    Ne是原子还是离子

    氖气(Ne)是惰性气体,所谓惰性气体(也就是稀有气体)很少和其他物质发生反应(但并不是绝对的不反应只是反应比较困难),所以一般Ne是以单质(也就是游离态)的形式出现,不可能是离子。而稀有气体一般都是单原子分子,所以"Ne"这个化学符号在宏观上可以表示氖气这种物质,...

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  • 离子源的功能和分类

    离子源的功能和分类

    去百度文库,查看完整内容> 内容来自用户:凌悠橙雅 离子源的功能和原理 3、离子辅助镀膜的薄膜特性: 1、镀层与工件表面同时存在物理气相沉积及化学反应,故镀层结合力高。2、膜层均匀致密、韧性好; 3、光谱特性稳定,温漂小 4、吸水性减少 5、折射率升高 6、粗糙度降低 7、激光阈...

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