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半导体cvd设备是什么
CVD设备是芯片制造薄膜沉积工艺的核心设备,全球市场主要由国外厂商垄断,国产替代需求强烈。”有行业内人士表示。招商证券也在研报中提出,薄膜沉积设备被海外AMAT、LAM、TEL、ASM等龙头垄断。同时,相较于清洗等其他设备,薄膜沉积市场空间更大,国内有望因此涌现出较大...
2024-08-15 网络 更多内容 297 ℃ 285 -
半导体CVD
Ultima和Speed都是基于HDP工艺基础上的机台,原理都是Dep和sputer同时进行的工艺,只是基于不同机台不同parts的叫法不同而已罢了。
2024-08-15 网络 更多内容 600 ℃ 832 -
半导体
霍尔效应可以测定载流子浓度及载流子迁移率等重要参数,以及判断材料的导电类型,是研究半导体材料的重要手段。还可以用霍尔效应测量直流或交流电路中的电流强度和功率以及把直流电流转成交流电流并对它进行调制、放大。用霍尔效应制作的传感器广泛用于磁场、位置、位移、...
2024-08-15 网络 更多内容 646 ℃ 670 -
芯片 半导体
一、不同的分类芯片:是电子技术中实现电路小型化的一种方法,通常是在半导体晶圆的表面制造。半导体:是指在室温下导体和绝缘体之间具有导电性的材料。半导体广泛应用于消费电子、通信系统、医疗仪器等领域。集成电路:是一种微电子器件或器件。利用一定的技术,将电路中所需...
2024-08-15 网络 更多内容 882 ℃ 815 -
半导体
通氧气,高压电离,用磁控管控制方向,用氧的等离子体来实现descum。很多除胶或灰化的设备都有这个功能,功率不要太大就行。专业的应该能看懂我说的是什么意思。
2024-08-15 网络 更多内容 293 ℃ 755 -
半导体
电导率介于金属和绝缘体之间的材料称为半导体。
2024-08-15 网络 更多内容 941 ℃ 498 -
半导体
#导电特性介于导体和绝缘体之间的物质叫半导体,如硅、锗、某些金属的氧化物和硫化物等。
2024-08-15 网络 更多内容 696 ℃ 669 -
半导体
#导电性能介于导体和绝缘体之间的一类物体,叫做半导体。
2024-08-15 网络 更多内容 804 ℃ 856 -
半导体
#导电性能介于导体和绝缘体之间的物体,一般为固体,呈晶体结构。如锗、硅以及金属的氧化物、硫化物等。
2024-08-15 网络 更多内容 980 ℃ 973 -
半导体中cvd pvdALD什么
将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。 ALD:原子层沉积。 拓展 由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点,ALD(原子层淀积)技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术,但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈...
2024-08-15 网络 更多内容 783 ℃ 802
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